Kapazitätsmanometer

Edge® CDG100D2

100°C temperaturgesteuert, Skalenendwert 1 ... 1000 Torr / mbar

Edge-CDG025D2-CDG045D2-CDG100D2
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Revolutionieren Sie Ihre Vakuummessgeräte-Erfahrung mit uns!

Product configurator

Gemini™ MxG5xx

Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
Your configuration
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Flange
DN 16 ISO-KF
Switching functions
None
Electrical Connection
FCC, 8-pin
Digital Interface
None
Measurement range
1.2 - 8.68 V
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Product
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Gemini™ MAG500
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Das Edge™-Kapazitätsmembranmessgerät von INFICON bietet äußerst genaue Vakuummessungen in rauen Fertigungsumgebungen. 

Der bewährte, temperaturgesteuerte, korrosionsbeständige und ultrareine Keramiksensor bietet hervorragende Messbereichsstabilität über viele Jahre sowie modernste Nullpunktstabilität. Das Edge-Messgerät wird mit INFICONs patentierter Sensorabschirmung geliefert, die das Gerät vor unerwünschten Prozessnebenprodukten schützt. Die moderne Elektronik ermöglicht eine über einen breiten Bereich konfigurierbare Signalkonditionierung für alle Anwendungen sowie eine optionale EtherCAT™-Feldbus-Schnittstelle. 

Das innovative Heizkonzept ermöglicht die Berührung der Außenfläche und spart wertvollen Werkzeugbauraum. Das INFICON Edge ist das kleinste Vakuummessgerät seiner Art.

Vorteile

  • Kompakt, spart wertvollen Werkzeugplatz
  • Einfache Integration, EtherCAT, eine Vielzahl von Messbereichen und Flanschen, standardmäßig mit zwei Sollwerten
  • Einfacher Nullbefehl per Tastendruck oder Remotesignal, Nullpunktverschiebung einstellbar
  • Diagnoseanschluss für schnelle Wartungsarbeiten
  • Zwei Jahre Garantie, längere Lebensdauer mit fortschrittlichem Heizkonzept und Messgerätschutz
  • Keine langfristige Neukalibrierung aufgrund von exzellenter Signalstabilität und Wiederholbarkeit, selbst bei anspruchsvollen Plasmaanwendungen
  • Compliance und Standards: CE, EN, UL, SEMI, RoHS

Typische Anwenduungen

  • PVD, Etch, CVD und andere Verfahren in der Halbleiterfertigung

Spezifikationen

1000 ... 500 Torr / mbar
200 ... 1 Torr / mbar
Genauigkeit % of reading0.15
Auflösungpercent FS0.003
Ausgangssignal (analog)V (dc)0 … +10
Ansprechzeit ms30
Werkstoffe gegen Vakuum Aluminum oxide ceramic (AI2O3), stainless steel (AISI 316L)
Genauigkeit % of reading0.15
Auflösungpercent FS0.003
Ausgangssignal (analog)V (dc)0 … +10
Ansprechzeit ms30
Werkstoffe gegen Vakuum Aluminum oxide ceramic (AI2O3), stainless steel (AISI 316L)
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