Transpector® XPR 3+
Restgasanalysator mit erweitertem Druckbereich – Innovation durch Sensorisierung
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Überwachung und Steuerung schneller Prozessänderungen
Der neue Restgasanalysator (RGA) Transpector XPR 3+ bietet branchenführende Messgeschwindigkeiten zur Überwachung und Steuerung der in der modernen Halbleiter- und Displayfertigung auftretenden schnellen Prozessänderungen. Der Transpector XPR 3+ ist ideal geeignet zur In-situ-Überwachung von Luftlecks, Gasreinheit, Kohlenwasserstoffen und Kontamination. Echtzeitmessungen mit dem Transpector XPR 3+ bieten deutlichen besseren Produktschutz verglichen mit periodischen Messungen der Anstiegsgeschwindigkeit.
Höhere Rentabilität durch Maximierung der Geräteverfügbarkeit
Der Restgasanalysator Transpector XPR 3+ ist ein praxisbewährter Quadrupolsensor mit zwei Ionenquellen für Anwendungen im Sputterbereich. Es ist keine Druckwandlungsausrüstung erforderlich; langlebige Komponenten und die Fähigkeit zur schnellen Erkennung und Diagnose von Störungen ergeben maximale Geräteverfügbarkeit, Produktdurchsatz und Ausbeute. Der Sensor kann ohne Pumpen kontinuierlich vom Hochvakuum bis zu 20 mTorr betrieben werden. Die Kammern des Transpectors XPR 3+ mit dualen Ionenquellen sind konzipiert, um ihre Beschichtung zu begrenzen, um die Empfindlichkeit der Ionenquelle zu wahren und Wartungsintervalle des Sensors zu verlängern.
Vorteile
- Wafer- und Panelschutz aufgrund hoher Empfindlichkeit gegen Lufteinbruch in Echtzeit und Kontaminationserkennung von Hochvakuum- bis zu PVD-Prozessdrücken
- Für maximale PM-Effizienz und Geräteverfügbarkeit bei schneller und zuverlässiger Kammerqualifizierung
- Langlebigeres, kontaminationsbeständiges Design mit 2 Ionenquellen minimiert die Gesamtbetriebskosten; zur Überwachung bis zu 20 mTorr ohne Pumpen. Niederdruck-EM-Variante bietet eine kostengünstige Alternative
- Nahtlose Integration in die Fertigung und zuverlässige Abschaltung durch leistungsstarke Datenerfassung und Synchronisierung
- Verbesserung spezieller Fertigungsmöglichkeiten durch maßgeschneiderte Rezepturoptimierung
- Schutz kritischer Prozessanforderungen durch sofortigen Vor-Ort-Einsatz von Experten
Typische Anwendungen
- PVD und Sputter-Prozessmodule
- Vorreinigungsmodule
- Nicht-Clustergeräte zur physikalischen Dampfabscheidung
- Eingespannte Entgasungsmodule
Spezifikationen
| Massenpositionsstabilität | <0.1 amu over 24 hours |
| Empfindlichkeit (FC-Modus) | ≥4E-7 amps/Torr (3E-7 amps/mbar) |
| Empfindlichkeit (nominell) | ≥8E-3 amps/Torr (3E-3 amps/mbar) |
| Kleinster nachweisbarer Partialdruck (FC-Modus) | ≤1E-9 Torr (1.3E-9 mbar) |
| Kleinster nachweisbarer Partialdruck (EM-Modus) | ≤6E-12 Torr (8E-12 mbar) |
| Maximaler Betriebsdruck (FC- oder EM-Modus) | 20 mTorr (2.6E-2 mbar) |
| Maximaler Betriebsdruck (Linearbetrieb) | 10 mTorr (1.3E-2 mbar) |
