Tecnología de detección por RF

Nuestra tecnología de detección de RF de vanguardia proporciona soluciones no invasivas para la monitorización de plasma en tiempo real, el grabado de obleas y el control de procesos en entornos industriales. Con una detección precisa de arcos y control de puntos finales, nuestros sensores mejoran la eficiencia, protegen contra eventos de arco y reducen los costes operativos. Diseñados para la recopilación de datos a alta velocidad, garantizan un rendimiento optimizado en los procesos de fabricación de semiconductores.

Precisión en la monitorización de plasma con la tecnología de RF de INFICON

Lograr un control preciso de los procesos en la fabricación de semiconductores requiere las herramientas adecuadas. La tecnología de detección por RF de INFICON, que incluye Sion™ y ADC100, ofrece potentes soluciones para la monitorización de plasma en tiempo real y el grabado de obleas. Sion™ proporciona información continua, lo que garantiza una detección precisa del punto final para evitar el grabado excesivo y el desperdicio de material. Del mismo modo, ADC100 ofrece una detección de arco y una protección superiores, lo que salvaguarda su equipo al tiempo que mantiene la eficiencia de la producción.

Ya sea para gestionar condiciones delicadas de plasma o para garantizar una calidad de grabado constante, la tecnología de sensores de RF de INFICON minimiza el tiempo de inactividad y maximiza la eficiencia. Con su diseño robusto, tanto el Sion™ como el ADC100 soportan entornos hostiles a la vez que ofrecen un rendimiento máximo, lo que los convierte en herramientas esenciales para la producción de alto riesgo.

La integración de las soluciones de detección de RF de INFICON en su proceso mejora la fiabilidad del flujo de trabajo, agiliza las operaciones y minimiza el tiempo de inactividad. Con estas herramientas avanzadas, puede lograr resultados de fabricación más rápidos y precisos, mejorando su ventaja competitiva.