Transpector® SPS
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
El analizador de gases residuales Transpector® de muestreo de presión única (SPS) de INFICON proporciona la mejor protección de obleas y del panel de visualización para procesos de alta presión específicos. Transpector SPS minimiza los daños en obleas y paneles con la detección más sensible de fugas de aire y contaminación de los procesos en aplicaciones de presión única. Ofrece límites de detección y velocidades de medición líderes del sector para garantizar la calidad y el número de salidas de obleas y paneles. Transpector SPS maximiza el rendimiento del proceso y de los productos al ofrecer la supervisión de procesos más fiable para procesos estables y de alta presión. El instrumento combina un sistema de entrada sencillo y económico con una fuente de iones y un paquete de bombeo probados para dar una solución sin riesgos y eficiente al análisis del gas. Transpector SPS es idóneo para aplicaciones de vacío e industriales, probado para aplicaciones metalúrgicas y de tratamiento térmico, como la refusión por arco al vacío (VAR). Transpector SPS se puede configurar y adaptar a aplicaciones y presupuestos específicos. Se pueden seleccionar combinaciones de orificios estándar, capilares y de líneas de derivación para el muestreo de presiones de proceso desde 1E-4 Torr hasta una atmósfera. La entrada resistente a la corrosión, la fuente de iones y el paquete de bombeo están diseñados para resistir durante procesos de decapado, CVD, ALD y otros procesos de gases agresivos.
Ventajas
- Minimiza el coste total de propiedad para la protección de obleas y paneles con una sola entrada de muestreo de presión, ideal para procesos de alta presión, como difusión, epitaxia y tratamientos térmicos rápidos (RTP)
- Proporciona la detención de contaminación y fugas de aire a los niveles más bajos para procesos constantes de presión alta.
- Proporciona una integración unificada con la fábrica e interceptación fiable gracias a una potente adquisición y sincronización de datos.
- Mejora las funciones de fabricación únicas con una optimización de fórmula adaptada.
- Protege las necesidades de procesos importantes con una respuesta inmediata e in situ por parte de los expertos.
Aplicaciones típicas
- Procesos de deposición física de vapor (PVD)
- Procesos de difusión y epitaxia
- Procesos de decapado de metal, dieléctricos, silicona y de plasma de alta densidad (HDP)
- Procesos de deposición química de vapor (CVD), como dieléctricos high-k, deposición química de vapor de plasma de alta densidad (HDP-CVD), deposición química de vapor a baja presión (LP-CVD), deposición química de vapor sub-atmosféricos (SA-CVD), deposición química de vapor (CVD) low-k y deposición química de vapor asistida por plasma (PE-CVD)
Especificaciones
| Rango total de presión | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| Límite de detección | <1 ppm |
| Presión de funcionamiento del sistema (con orificios o capilares) | 1E-4 Torr to 1.2 atmospheres |
| Sensibilidad (a baja emisión y en modo FC) | >4.0E-6 amps/Torr (>3E-6 amps/mbar) |
| Sensibilidad (a alta emisión y en modo FC) | >2.0E-5 amps/Torr (>1.5E-5 amps/mbar) |
| Rango total de presión | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| Límite de detección | <2 ppm |
| Presión de funcionamiento del sistema (con orificios o capilares) | 1E-4 Torr to 1.2 atmospheres |
| Sensibilidad (a baja emisión y en modo FC) | >2.0E-6 amps/Torr (>1.5E-6 amps/mbar) |
| Sensibilidad (a alta emisión y en modo FC) | >1.0E-5 amps/Torr (>7.6E-6 amps/mbar) |
| Rango total de presión | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| Límite de detección | <4 ppm |
| Presión de funcionamiento del sistema (con orificios o capilares) | 1E-4 Torr to 1.2 atmospheres |
| Sensibilidad (a baja emisión y en modo FC) | >1.0E-6 amps/Torr (>7.6E-7 amps/mbar) |
| Sensibilidad (a alta emisión y en modo FC) | >5.0E-6 amps/Torr (>3.8E-6 amps/mbar) |
