光学式ガス分析計
Quantus® HP100
常時漏えい検知、エンドポイント検知、プロセスモニタリング
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
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INFICONのQuantus HP100ガス分析装置はセルフプラズマ光学発光分光法（SPOES）技術をベースに、半導体製造中に常時リーク検出、終点検出、プロセスモニタリングを行うようデザインされています。Quantus HP100は優れた感度、コンパクト形状、コストのかかるポンプなしに広い圧力範囲での動作を提供し、ほとんどの半導体装置のプロセス監視と保護に適しています。
特徴
- 動作範囲：アルゴン：1Torr～450Torr、窒素：1Torr～120Torr（他のガス種は異なる）
- 検出限界値 <1 ppm
- KF25の接続規格による簡単な接続
- 高速サンプリング（最大20Hz）
- 設置面積（高さ×幅×長さ）：6.4×6.0×8.3インチ［162×153×210mm］。
- ポンプや消耗品が不要で、容易なメンテンス性。
- 現場で交換可能な便利なプラズマセル
- お客様のプロセスニーズにワールドワイドで対応するエキスパートによるサポート体制
仕様
| 動作圧力 | 1Torr〜450Torr（アプリケーションに依る。） |
| スペクトロメーターの性能 | 200～850ナノメートル波長（UV-VIS） 16ビットフルスケール分解能、3648ピクセル |
| 検出限界 | < 1 ppm (アプリケーション依存) |
| 露光時間 | 最小1ms |
| 接続 | KF25 |
