光学式ガス分析計

Quantus® HP100

常時漏えい検知、エンドポイント検知、プロセスモニタリング

Quantus HP100
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Product configurator

Gemini™ MxG5xx

Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
Your configuration
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Flange
DN 16 ISO-KF
Switching functions
None
Electrical Connection
FCC, 8-pin
Digital Interface
None
Measurement range
1.2 - 8.68 V
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Personal information
Product
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Gemini™ MAG500
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INFICONのQuantus HP100ガス分析装置はセルフプラズマ光学発光分光法(SPOES)技術をベースに、半導体製造中に常時リーク検出、終点検出、プロセスモニタリングを行うようデザインされています。Quantus HP100は優れた感度、コンパクト形状、コストのかかるポンプなしに広い圧力範囲での動作を提供し、ほとんどの半導体装置のプロセス監視と保護に適しています。

特徴

  • 動作範囲:アルゴン:1Torr~450Torr、窒素:1Torr~120Torr(他のガス種は異なる)
  • 検出限界値 <1 ppm
  • KF25の接続規格による簡単な接続
  • 高速サンプリング(最大20Hz)
  • 設置面積(高さ×幅×長さ):6.4×6.0×8.3インチ[162×153×210mm]。
  • ポンプや消耗品が不要で、容易なメンテンス性。
  • 現場で交換可能な便利なプラズマセル
  • お客様のプロセスニーズにワールドワイドで対応するエキスパートによるサポート体制

仕様

動作圧力1Torr〜450Torr(アプリケーションに依る。)
スペクトロメーターの性能200~850ナノメートル波長(UV-VIS) 16ビットフルスケール分解能、3648ピクセル
検出限界< 1 ppm (アプリケーション依存)
露光時間最小1ms
接続KF25
仕様の詳細はこちらからダウンロードできます。
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