气体分析
技术
质谱分析法
光学光谱学
过程
PVD
CVD化学气相沉积
ALD原子层淀积
蚀刻
光刻
压力
< E-5 Torr
> E-4 Torr 至 1E-2 Torr
1E-2 Torr 到 1 Torr
> 1 Torr
检测极限
1-10 ppm
< 1 ppm
< 10 ppb
市场
暖通空调/制冷
工业制造
真空镀膜
安全
能源
半导体IDM和晶圆代工厂
半导体设备制造商
显示
医药和医疗
移动和汽车
研究与学术界
分析仪器
电池
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光学气体分析仪
Augent™ OPG550
INFICON AugentTM 光学等离子体真空计是一种紧凑、智能的真空监测解决方案。
Augent™ OPG550
- 高速检漏,可进行腔体检漏
- 提高生产率和产量
- 寿命长,不烧丝,有气涌保护
- 可承受工艺化学反应

质谱仪
用于 Transpector® CPM
允许Transpector CPM成为一个移动的故障诊断仪器
用于 Transpector® CPM
- 足够灵活,可将 Transpector CPM 用于您需要的地方
- 占地面积小,适合在狭小的空间内使用
- 一个完整的系统,能够容纳运行 Transpector CPM 所需的一切。

质谱仪
QMG 700
QMG 700分析质谱仪突破检测障碍,将您的工艺推向创新的新高度
QMG 700
- 质量范围选择从1-512 amu
- 超过90年的动态范围
- 极快的测量速度: 0.125 ms/amu
- MDPP < 10E-16 mbar

光学气体分析仪
Quantus® HP100
为尖端的半导体制造工艺和其他气体分析应用提供实时泄漏检测、端点检测和过程监测
Quantus® HP100
- 操作范围从1托到450托
- 卓越的检测极限< 1 ppm
- 长期的可靠性:不需要泵
- 使用标准的KF25连接,易于安装

光学气体分析仪
Quantus® LP100
为关键工艺环境提供实时泄漏检测和端点检测
Quantus® LP100
- 操作范围为10 mTorr至1 Torr
- 优秀的检测限可低至低ppm水平
- 长期的可靠性:不需要泵
- 使用标准的KF25连接,易于安装

质谱仪
Transpector® CPM 3
从基线到过程压力的多功能过程监测
Transpector® CPM 3
- 理想的半导体过程监测器
- 多压力采样入口
- 检测极限低于1ppm
- 集成差分泵

质谱仪
Transpector® MPH
高性能四极杆质谱仪
Transpector® MPH
- 90年代的动态范围
- 行业领先的数据收集率
- 可更换的传感器和电子设备
- 扫描量高达300阿姆

质谱仪
Transpector® MPS
多用途四极杆质谱仪
Transpector® MPS
- 90年代的动态范围
- 可更换的传感器和电子器件
- 可选的连续动态电子倍增器
- 扫描量高达200 amu

质谱仪
Transpector® SPS
在目标压力范围内的过程监测
Transpector® SPS
- 有针对性的高压工艺
- 单一压力采样入口
- 检测限低于1ppm
- 集成的差分泵系统

质谱仪
Transpector® XPR 3+
极端PVD过程监控四极杆质谱仪
Transpector® XPR 3+
- 行业领先的最大工作压力
- 可选的超压隔离阀联锁
- 扫描量高达100 amu