质谱仪
Transpector® APX 多压力传感器
即时洞察、智能控制、提升良率。
在先进的半导体制造中，每一秒、每分子都至关重要。工艺化学的细微变化会直接影响薄膜质量、均匀性和良率。多数工厂至今仍难以实时监测这些变化，尤其在压力波动和恶劣化学环境下。即时捕捉、分析并响应气相数据的能力，如今不仅是工艺控制的必需，更是智能数据驱动制造的核心。
当今的先进工艺——无论是原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）还是刻蚀——都要求具备实时可视性、可重复性和工艺控制能力。缺乏这些能力将导致制造商面临：
- 刻蚀终点不可见及残留物堆积，引发晶圆缺陷、良率损失和高昂返工成本
- 跨腔室工艺偏差，导致结果不一致，延长新设备组和工艺配方认证周期
- 工艺漂移与污染：源于泄漏、腔室环境恶化或受污染工艺气体，导致停机时间增加与良率下降
- 传感器与工厂分析系统间数据孤岛：阻碍工程师实时关联气相信号与良率/设备健康状况
Transpector APX多压力监测系统专为未来智能工厂打造，助您洞察、理解并掌控关键工艺流程。
了解Transpector APX如何提供实时气体分析
可衡量的成果
通过在关键时刻和关键位置为工程师提供所需的可视化数据，彻底改变工厂的核心流程。Transpector APX多压力分析仪不仅是气体分析仪，更是通往卓越工艺的智能制造门户。
- 通过在每个阶段捕捉化学信号，最大限度减少废品和计划外设备停机时间。
- 借助跨设备一致的传感器数据和校准，实现更快的工艺爬坡和配方转移。
- 通过主动监测化学与压力参数，有效抑制工艺漂移并降低维护成本。
- 提升全厂数据利用率，为分析系统、故障诊断系统及预测性维护平台提供数据支持。
优势
- 终极工艺监测：每秒采集超过550个数据点，实时洞察沉积与刻蚀阶段
- 耐强腐蚀化学环境：HexBlock™多入口系统搭载专有涂层，可监测腐蚀性及高颗粒浓度环境
- 空间高效布局：高性能抽气系统使占地面积缩减30%，轻松适配紧凑型工厂布局
- 无缝设备匹配与分析：通过FabGuard®实现自动校准与工厂分析系统直接集成，确保腔室行为一致性及跨设备数据可靠性
- 智能工厂可扩展集成：支持多层级监测、诊断及数字孪生就绪功能，契合工业4.0与智能制造战略
规格
100 AMU
200 AMU
300 AMU
| 总压力范围 | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| 检测限 | <10 ppb |
| 工艺压力范围 | 1E-8 Torr to 1.2 atm (1.3E-8 mbar to 1.2 atm) |
| 灵敏度（低发射） | >4.0E-6 A/Torr (>3E-6 A/mbar) |
| 灵敏度（高发射） | >2.0E-5 A/Torr (>1.5E-5 A/mbar) |
| 总压力范围 | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| 检测限 | <25 ppb |
| 工艺压力范围 | 1E-8 Torr to 1.2 atm (1.3E-8 mbar to 1.2 atm) |
| 灵敏度（低发射） | >2.0E-6 A/Torr (>1.5E-6 A/mbar) |
| 灵敏度（高发射） | >1.0E-5 A/Torr (>7.6E-6 A/mbar) |
| 总压力范围 | 5E-7 to 1E-3 Torr (6.6E-7 to 1.3E-3 mbar) |
| 检测限 | <50 ppb |
| 工艺压力范围 | 1E-8 Torr to 1.2 atm (1.3E-8 mbar to 1.2 atm) |
| 灵敏度（低发射） | >1.0E-6 A/Torr (>7.6E-7 A/mbar) |
| 灵敏度（高发射） | >5.0E-6 A/Torr (>3.8E-6 A/mbar) |
耗材
| Part Number | Description |
| 969-800-G1S | APX CIS 钨丝套件 金 |
| 969-800-G2S | APX CIS 镀层钨丝套件 金 |
| 969-801-G1S | APX CIS 钨离子源套件 金 |
| 969-801-G2S | APX CIS 带阳极衬套的钨离子源套件 金 |
| 969-801-G3S | APX CIS 镀层离子源套件 金 |
| 969-801-G4S | APX CIS 带阳极衬套的镀层离子源套件 金 |
| 961-707-G1 | 电子倍增器更换套件 |
| 923-418-G2 | 两级泵用隔膜更换套件 |
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应用说明
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该产品应用于以下市场
