用于半导体工艺和工厂优化的智能传感器和制造软件
半导体制造商及其客户要求精确、高效和可控，以最大限度地提高产量和吞吐量。随着半导体行业面临新的挑战，在 AI/ML 的辅助下，自主半导体工厂的需求对半导体行业未来的成功至关重要。INFICON 智能解决方案在塑造半导体行业的未来方面至关重要。我们提供一整套行之有效的工具，其独特设计旨在优化整个半导体周期，涵盖半导体制造生态系统的前端到后端，以及子工厂和设施系统。
智能制造软件助力半成品制造
我们的智能制造软件套件为半导体生产线提供了最广泛部署的全面监测、控制和工厂优化功能。我们的 Digital Twin 数据仓库将工厂数据实时整合到关键报告和应用程序中，以便有效地做出快速决策。FabGuard® 和 SmartFDC® 等工具利用先进的数据分析、机器学习和预测建模算法来分析大量的实时过程数据，识别潜在的偏差或异常，并主动优化过程参数，以最大限度地提高产量和生产率，并预测维护需求。INFICON 的智能制造系统扩展到子工厂，提供实时监控，通过主动控制子工厂和设施系统，使耗材使用与生产需求相匹配，从而加强偏移检测，推动工厂实现更环保的运营。FabControl 提供自主智能制造所需的综合全面的先进过程控制解决方案。FabRecover 提供动态、实时的预防性和纠正性维护决策支持以及失控行动计划，通过数据驱动的分析和审查支持持续改进。
用于实时过程监控的智能传感器
INFICON 智能传感器是我们解决方案的核心，有助于解决或实现下一代半导体制程挑战。INFICON 的传感技术可精确测量实时过程条件，包括：痕量气体浓度、杂质和过程副产品。INFICON 使制造商能够更精确地控制制程，从而提高产量、改善制程控制并减少缺陷。我们的过程传感技术包括
Transpector® 气体分析系统具有业界领先的数据采集、速度和灵敏度。先进的 Transpector APX 过程监控器可为您的 ALD、CVD 和蚀刻过程提供最长的使用寿命，从而实现最佳的基底保护和过程优化。Transpector MPH 和 XPR3+ 是现场漏气、气体纯度、碳氢化合物和污染监测的理想之选。对于 ALD、蚀刻、CVD 和 300 mm Degas 的实时过程监控，Transpector CPM 3 在这些要求苛刻的应用中具有经现场验证的耐用性和可靠性。
INFICON Quantus® HP100 气体分析仪基于自等离子体光学发射光谱 (SPOES)，可用于实时泄漏检测、端点检测和过程监控。Quantus HP100 结构紧凑，灵敏度高，外形小巧，工作压力范围宽，无需昂贵的泵，是大多数半导体工具的理想之选。
在前驱体监控方面，SemiQCM 可以安装在一些最恶劣的 CVD 或 ALD 室中。通过监测前线或室排气中的前驱体数量，可实现终点和故障排除。SemiQCM 可提供经济实惠的工艺监控，并提高半导体工艺的盈利能力。
随着存储器和逻辑器件的堆叠层不断增加，器件架构也在不断垂直发展，因此精确的蚀刻端点检测变得更具挑战性。INFICON 的射频传感器套件可提供实时等离子监测，以实现最精确的蚀刻控制，同时提供高速电弧检测，以提高晶圆安全性。
INFICON 智能传感器有助于确保半导体沉积、蚀刻和其他关键过程的最佳条件。这些智能传感器在维持芯片制造所需的无菌环境方面也发挥着重要作用。这些技术甚至可以检测到真空室中最微小的泄漏，防止污染并确保最终产品的完整性。对质量控制的重视有助于半导体制造商保持芯片的高可靠性和一致性。
INFICON 深知可持续发展在半导体行业日益重要的意义。我们的 Subfab 和设施控制系统可帮助制造商优化能源消耗和耗材使用，重点是减少温室气体排放，从而提高制造过程的环保性。我们基于智能工具的数字孪生系统使工程师能够从各种传感器、仪表、设施和其他设备中收集数据，从而开发出业内最全面的工艺工具视图。将这种强大的过程信息收集与子设备和设施数据相结合，可以清楚地看到潜在的过程影响，并提供更好的控制方法。
INFICON 是全球最大半导体制造商值得信赖的合作伙伴，也是用于过程和工厂优化的仪器和软件的行业领导者。我们提供从精确测量工具到先进软件平台的各种解决方案，在推动半导体制造方面发挥着重要作用。INFICON 专注于精度、效率、质量和可持续性，帮助确保生产出可靠、高性能的芯片，为我们日益互联的世界提供动力。通过 INFICON，您可以获得全球专家支持，满足您特定的过程需求。
