Quantus® LP100+
실시간 가스 분석 및 엔드포인트 탐지
산업 또는 제품 관련 무료 웨비나에 관심이 있으세요?
기술 발전으로 공정이 한계에 다다르면서 반도체 제조 과정에서 공정 모니터링의 중요성이 점점 더 커지고 있습니다. 미량의 오염도 결과에 큰 영향을 미칠 수 있기 때문에 중요한 공정 환경에서는 실시간 누설 및 엔드포인트 감지가 필수적입니다. 인피콘 Quantus® LP100+ 가스 분석기는 작은 변화를 즉시 식별하고 이에 대응하도록 설계되어 웨이퍼 스크랩을 최소화하고 수율을 개선합니다.
자체 플라즈마 광학 방출 분광법(SPOES) 기술을 기반으로 하는 Quantus LP100+는 낮은 ppm 범위까지 탁월한 검출 한계를 제공하며 챔버 또는 펌프 라인 등 설치 위치에 따라 유연하게 사용할 수 있습니다.
고유한 센서 설계로 설계된 Quantus LP100+는 기존 OES 제품에 비해 비교할 수 없는 이점을 제공합니다. 이 센서는 플라즈마 셀에서 국부적인 플라즈마를 생성하여 플라즈마 챔버 설치를 넘어 비플라즈마 챔버와 포라인 또는 배기 라인과 같은 기타 장비 위치로 OES 기반 가스 분석기의 기능을 확장합니다. 고가의 펌핑 시스템 없이도 작동 범위가 10 mTorr ~ 1 Torr인 Quantus LP100+는 다양한 공정과 호환되며 최소한의 유지보수가 필요하고 소유 비용이 저렴합니다.
Quantus LP100+는 표준 KF25 포트를 사용하여 시스템에 쉽게 연결할 수 있습니다. 설치 공간이 작아 프로세스 툴 안팎에서 발생하는 일상적인 작업을 방해하지 않습니다.
특징
- 작동 범위 10 mTorr ~ 1 Torr
- 낮은 ppm 수준까지 탁월한 검출 한계
- 표준 KF25 연결을 사용한 간편한 설치
- 10Hz의 빠른 샘플링 속도
- 낮은 유지보수, 장기적인 신뢰성
- 낮은 소유 비용, 펌프나 소모품 필요 없음
- 편리한 현장 교체형 플라즈마 셀
- 작은 설치 공간: (H x W x L) 87 x 150 x 241mm(3.4 x 5.9 x 9.5인치)
- 숙련된 현장 교육을 받은 인피콘 엔지니어의 지원
사양
| 작동 압력 | 10m토르 ~ 1토르(애플리케이션에 따라 다름) |
| 분광기 성능 | 200-850 나노미터 파장(UV-VIS) 16비트 풀스케일 해상도, 3648픽셀 |
| 탐지 제한 | 낮은 ppm 수준(애플리케이션에 따라 다름) |
| 노출 시간 | 최소 1ms |
| 진공 피팅 | KF25 |
