광학 가스 분석기

Quantus® HP100

실시간 누설 감지, 엔드포인트 감지 및 프로세스 모니터링

Quantus HP100
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Product configurator

Gemini™ MxG5xx

Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
Your configuration
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Flange
DN 16 ISO-KF
Switching functions
None
Electrical Connection
FCC, 8-pin
Digital Interface
None
Measurement range
1.2 - 8.68 V
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Personal information
Product
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Gemini™ MAG500
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인피콘 Quantus HP100 가스 분석기는 자체 플라즈마 광학 방출 분광법(SPOES) 기술을 기반으로 하며 반도체 제조 중 실시간 누설 감지, 엔드포인트 감지 및 공정 모니터링을 제공하도록 설계되었습니다. Quantus HP100은 뛰어난 감도, 컴팩트한 폼 팩터, 고가의 펌프 없이도 넓은 작동 압력 범위를 제공하므로 대부분의 반도체 툴에서 공정 모니터링 및 보호에 매우 적합합니다.

특징

  • 작동 범위: 아르곤의 경우 1 토르 - 450 토르, 질소의 경우 1 토르 - 120 토르 (가스 종류에 따라 다름)
  • 1ppm 미만의 낮은 검출 한계
  • KF25 연결을 사용한 간편한 설치
  • 빠른 샘플링(최대 20Hz)
  • 작은 설치 공간(가로 x 세로 x 높이): 6.4 x 6.0 x 8.3인치[162 x 153 x 210mm]
  • 낮은 유지보수, 펌프 또는 소모품 필요 없음
  • 편리한 현장 교체형 플라즈마 셀
  • 특정 공정 요구 사항에 대한 전 세계 전문가 지원

사양서

작동 압력1 토르 - 450 토르(애플리케이션에 따라 다름)
분광기 성능200~850나노미터 파장(UV-VIS) 16비트 풀스케일 해상도, 3648픽셀
감지 한도< 1ppm 미만(애플리케이션에 따라 다름)
노출 시간최소 1ms
진공 피팅KF25
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