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HP100 SP-OES 소개
차동 펌핑 시스템 없이 고압에서의 실시간 가스 분석
위치
온라인
언어
한국어
소요 시간
35분
웨비나 소개
기존 광학 방출 분광법(OES)은 밝은 플라즈마 챔버에서만 작동합니다. 당사의 Quantus® HP100이 이를 변화시킵니다. 자체 플라즈마 OES(SP-OES) 기술을 사용하여 자체적인 로컬 플라즈마를 생성함으로써, 기존 장비가 도달할 수 없는 암실 챔버, 포어라인 및 배기 라인에 실시간 가스 조성 모니터링을 제공합니다.
이 웨비나는 HP100이 잔류 가스 분석기 제품군에 어떻게 적합한지, 플라즈마 생성 및 광학 검출의 원리, 그리고 누설 감지 시간을 몇 주에서 하루로 단축하는 정밀 누설 위치 파악을 포함한 실제 응용 사례를 다룹니다. 또한 Quantus LP100과 HP100을 압력 범위, 검출 한계, FabGuard 소프트웨어와의 통합 측면에서 비교해 보여드립니다.
반도체 식각 공정을 최적화하거나, CVD 챔버를 모니터링하거나, 더 빠른 누설 감지 방법을 찾고 계신다면, 이번 세션을 통해 공정 압력에서 가스 분석이 가능할 때 무엇을 실현할 수 있는지 직접 확인해 보시기 바랍니다.
